Cinétique et mécanisme de la siliciuration du niobium et de l’oxydation des siliciures de niobium à basse pression et à haute températureChristian Gelain, Albert Cassuto and Pierre Le GoffJ. Chim. Phys., 67 (1970) 1395-1401DOI: https://doi.org/10.1051/jcp/1970671395
