Implantation ionique dans le parasexiphényle : effet des paramètres d’implantation sur les propriétés du matériau déposé en couches mincesL Athouël, G Froyer, M Salvi, M Gauneau, G Louarn, S Lefrant and A MolitonJ. Chim. Phys., 89 (1992) 1279-1284DOI: https://doi.org/10.1051/jcp/1992891279
