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J. Chim. Phys.
Volume 67, 1970
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Page(s) | 527 - 534 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1970670527 | |
Published online | 28 May 2017 |
N° 73. — Étude, par résonance paramagnétique électronique, de catalyseurs à base d’oxydes de molybdène ou de cérium
I. — Propriétés réductrices
Institut de Recherches sur la Catalyse, CNRS, 39, boulevard du 11-Novembre 1918, 69-Villeurbanne, France
Les auteurs étudient les propriétés superficielles de la silice et des alumines η et γ imprégnées par des solutions d’acide molybdique ou de nitrate céreux. Les surfaces spécifiques et la texture de ces solides sont déterminées. L’analyse par diffraction des rayons X permet de déceler la présence de MoO3 dispersé sur la silice et sur les alumines contenant plus de 10 % de molybdène; CeO2 libre est toujours présent. La formation de radicaux négatifs T.G.N.E. sur alumine et sur MoO3/Al2O3 est étudiée. La diminution du nombre de radicaux (T.C.N.E.) lorsque la concentration en molybdène augmente indique qu'il se produit une réaction chimique entre les OH basiques de l’alumine et l’acide molybdique. Le caractère basique des alumines est peu modifié par l’oxyde cérique. La réduction des ions Mo6+ est étudiée par RPE. Les résultats sont interprétés en considérant qu’une partie des ions Mo6+ est située dans des sites octaédriques de l’alumine.
Abstract
Amorphous silica and alumina impregnated with varying concentration of Mo6+ and Ce4+ are studied. Surface area and pore structure are carried out. X ray diffraction studies indicate the presence of free MoO3 on silica support and on alumina containing more than 10 % molybdenum. Free CeO2 is always detected. Formation of T.C.N.E. negative ions on these materials is discussed. The results are explained by a difference in basicity of carrier surface hydroxyl groups; tlie OH of alumina oxide have a basic character and are capable of forming a salt with the molybdic acid. Moreover, a part of molybdenum content occupies octahydrally vacancies existing on alumina: Stabilization of molybdenum in the hexavalent form results.
© Paris : Société de Chimie Physique, 1970