N° 85. — Chimisorption du méthane sur films métalliques: détermination de l’aire couverte par molécule chimisorbée et du coefficient de collage

Laboratoire de Chimie Nucléaire, École royale militaire, Bruxelles, France

Résumé

La chimisorption du CH₄ est étudiée sur films de Cu, Ag, Ni, Ti, Ta, Pd, Rh, Re, Mo préparés sous haut-vide depuis la température du mélange CO₂ — acétone jusqu’à la température, différente d’un métal à l’autre, où cette réaction est accompagnée de dégagement d’H₂.

Dans ce domaine de température, les films de Cu, Ag et Ni n’adsorbent pas le CH₄. Sur les autres métaux, la mesure de la vitesse de chiinisorption et la connaissance de l’aire des films permettent de déterminer la fraction de chocs, efficaces pour la chiinisorption du méthane, entre les molécules gazeuses et le solide.

La connaissance de l’aire des films permet également la détermination statistique de la section efficace de recouvrement de la molécule de méthane chimisorbée.

A partir de ¡’adsorption complémentaire d’H₂ sur une surface saturée de CH₄, on évalue le nombre de « sites » statistiquement couverts pur molécule de méthane chimisorbée.

Abstract

The chemisorption of CH₄ on Cu, Ag, Ni, Ti, Ta, Pd, Rh, Re and Mo films prepared under high vacuum is measured in a temperature range from — 81,5 °C (acetone — CO₂ mixture) to the temperature, different from one metal to another, at which one observes H₂ evolution during the chemisorption reaction.

In this temperature range, Cu, Ag and Ni films do not adsorbe CH₄. The knowledge of the chemisorption rate and of the Mini’s area permits to determine the sticking coefficient for CH₄ chemisorption on the other metals.

From the knowledge of the film’s area, it is possible to determine the covering cross section of the chemisorbed CH₄, molecule. One evaluates the number of « sites » statistically covered by one chemisorbed CH₄, molecule, from the H₂ adsorption on a previously CH₄ covered surface.