Étude de la photodésorption de Co adsorbé sur un monocristal de Ni/110/₃

Services de Physique Générale. Service de Physique Atomique. Section d’Études des Interactions Gaz-Solides. Centre d'Études Nucléaires de Saclay, BP n° 2, 91-Gif-sur-Yvette., France.

Résumé

Deux méthodes expérimentales différentes ont été utilisées dans le but d’étudier le phénomène de photodésorption pour des longueurs d’onde comprises entre 230 et 800 nm.

Par éclairement continu de la surface une méthode d'amplification différentielle permet de déterminer un taux de désorption maximum de 5.10^-9 molécule par photon à 265 nm, somme d’un effet par processus direct et d’un effet par processus thermique : la section efficace maximum correspondante est 5.10^-23 cm².

Par éclairement pulsé de la surface une méthode de détection synchrone qui élimine les effets de paroi et de désorption thermique donne une valeur maximum du taux de désorption par effet direct à l’exclusion de l’effet thermique de 10^-9 molécules par photon, ce qui correspond à une section efficace inférieure à 10^-23 cm².

Abstract

Two experimental methods have been used to study photodesorption in the wavelength range of 230-800 nm.

Using continuous photon bombardment, a differential amplification method leads to a maximum desorption rate of 5.10^-9 molecules/photon occurring at a wavelength of 265 nm. With this method, the results are the sum of a direct photonic effect and a thermal effect. The corresponding cross section is 5.10^-23 cm².

With a pulsed photon beam and lock-in detection method, the measured maximum rate is 10^-9 molecules/photon. This method, by elimination of wall effects and surface thermal processes, gives the maximum rate of direct photonic desorption and leads to a cross section of less than 10^-23 cm².