Adsorption isobare d’hydrogène par des films de nickel, phosphore

Laboratoire de Physique de Dépôts Métalliques, Université Nancy I, Boulevard des Aiguillettes 54 Nancy , France.

Résumé

Les films de nickel-phosphore obtenus par oxydoréduction, en phase liquide à des températures inférieures à 100 °C, sont imparfaitement cristallisés.

Un recuit sous vide classique conduit, au-delà de 300 °C, à une cristallisation progressive des phosphures de nickel et du nickel.

Les modifications structurales se traduisent par une augmentation de la conductivité électrique et du coefficient de température des résistances.

L’adsorption d’hydrogène entraîne une variation de la résistance électrique liée à la structure de la matière.

Abstract

The nickel-phosphorus films obtained by oxidation reduction in liquid phasis below 100 °C are very badly crystallized.

By annealing in classical vacuum above 300 °C one gets a progressive crystallization of the nickel-phosphides and of the nickel.

Changes in the structure are revealed by an increase of the electric conductivity and of the temperature factor.

The hydrogen adsorption causes a variation of the electrical resistance closely dependent on the material structure.