Interdiffusion à l’état solide dans le système KI — RbI

¹ Laboratoire de Cristallographie et Physique Cristalline, associé au CNRS, Université de Bordeaux I, 351, Cours de la Libération, 33405 Talence., France.

Résumé

La diffusion chimique dans le système KI — RbI a été étudiée dans la gamme de température 545-615 °C. Deux techniques ont permis d’obtenir les courbes concentration pénétration : d’une part, découpe de l’échantillon au microtome et analyse radiocristallographique ; d’autre part, utilisation de la microsonde électronique. Les coefficients d’inter-difïusion [math] ont été calculés par les méthodes de Boltzmann- Matano et de Hall.

Les coefficients [math] ne dépendent pas du temps. Par contre, bien que thermodynamiquement le système soit proche de l'idéalité, les [math] ne sont pas indépendants de la concentration.

Abstract

The interdiffusion coefficient [math] in the (K — Rb)I solid solutions has been determined over the range 545-615 °C. The Boltzmann-Matano and Hall methods were employed to compute diffusivities from concentration vs. penetration curves measured with electron microprobe analysis and with sectioning and radiocristallographic analysis. The results obtained show that [math] does not depend of time but is concen- tration-dependant although KI — RbI is a nearly ideal thermodynamic System.