Système Cu/H₃PO₄ : instabilité et oscillations

Laboratoire de Physico-chimie, U.E.R. de Physique, Université Claude-Bernard, Lyon L, 69621 Villeurbanne, France.

Résumé

Le système Cu/H₃PO₄ présente un comportement rythmique en liaison avec la zone d’instabilité située au début du palier de polissage. Le phénomène existe dans les conditions usuelles du polissage électrolytique du cuivre mais également lorsque certaines conditions expérimentales sont modifiées (concentrations, température, agitation, orientation et structure de l’anode...). Nous précisons ici les influences de ces diverses grandeurs sur la localisation de la zone d’instabilité et sur les oscillations spontanées du potentiel anodique et de la densité de courant. Ces observations renforcent notre point de vue quant au rôle essentiel joué par la couche d’oxyde superficiel dans la production du phénomène rythmique.

Abstract

The Cu/H₃PO₄ electrochemical system presents an oscillatory baheviour correlated with the presence of an instability region; this region is located at the beginning of the limiting current plateau corresponding to electropolishing conditions. Moreover some modifications of experimental parameters (concentrations, temperature, stirring, orientation and structure of the anode...) weakly alter the periodic phenomenon. These modifications influence the localization of the instability region.

These observations strengthen our point of view as regards the part played by the surface oxide layer in the oscillatory behaviour.