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J. Chim. Phys.
Volume 86, 1989
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Page(s) | 1813 - 1822 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1989861813 | |
Published online | 29 May 2017 |
Electron yield X ray absorption spectroscopy at atmospheric pressure
LURE, Bât. 209D, 91405 Orsay Cedex, France.
The electron yield at atmospheric pressure for X ray absorption spectroscopy is a new technique able to study the very top surface of thick samples in real environments. A combined detector has been designed at LURE which yields spectra in transmission, electron and fluorescence modes. This method offers, compare to the surface EXAFS technique, several advantages : i) possibility of studying directly thick samples without any specific preparation, ii) simplicity of the technology which does not require ultra-high vacuum and iii) high sensitivity due to the large solid angle collection. The probed thickness with this configuration is typically of the order of 300-500Å which means that thin films, implanted materials or interfaces can be studied ; preliminary results on such systems are reported.
Résumé
La spectroscopie d’absorption X en détection d’électrons et à pression atmosphérique est une nouvelle technique qui permet d’étudier la proche surface d’échantillons massifs dans leurs environnements réels. Un dispositif spécial a été construit à LURE qui permet d’obtenir des spectres d’absorption X à la fois en transmission, en détection d’électrons et de fluorescence. Cette méthode, comparée à la technique d’EXAFS de surface, présente plusieurs avantages : i) possibilité d’étudier directement des échantillons épais sans aucune préparation spéciale, ii) technologie simple qui ne fait pas appel à l’ultra-vide et iii) grande sensibilité due au grand angle solide de collection. La profondeur sondée étant de l’ordre de 300-500 Å, des films minces ou des matériaux implantés ou encore des interfaces peuvent être étudiés avec cette technique. Des résultats préliminaires obtenus avec de tels systèmes sont discutés.
© Paris : Société de Chimie Physique, 1989