Journal de Chimie Physique et de Physico-Chimie Biologique

Passivation des impuretés et des défauts du silicium par implantation d’ions hydrogène

JC Muller, P Siffert, A Barhdadi and H Amzil

J. Chim. Phys., 88 (1991) 2223-2228

Published online: 29 May 2017

DOI: 10.1051/jcp/1991882223

JC Muller

P Siffert

A Barhdadi

H Amzil

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