Excitation électronique du radical OH (OD) A²Σ⁺ formé par photolyse de H₂O (D₂O) A 104,8 - 106,7 nm et par photosensibilisation par l’argon

E.R. 57, associée à l’E.S.P.C.I., 10, rue Vauquelin, 75005 Paris, France.

Résumé

On a étudié les émissions OH(OD)(A²Σ⁺ → X²Π), OH(OD) étant formé par photolyse de H₂O(D₂O) en phase vapeur par la lampe à argon (104,8 et 106,7 nm) et par photosensibilisation par l’argon. La température rotationnelle de OH(A²Σ⁺) est plus élevée durant la photolyse directe que lors des expériences de photosensibilisation par l'argon. On discute ce résultat en fonction des transferts d’énergie résonnants et non résonnants, et en comparaison avec les résultats obtenus par d’autres auteurs par collision de H₂O et D₂O avec des atomes d’argon métastable. Les températures rotationnelles obtenues pour H₂O et D₂0 sont assez voisines, de telle sorte que le même modèle de photodissociation peut être envisagé pour les deux molécules.

Abstract

OH(OD)(A²Σ⁺ → X²Π) emissions have been studied, OH(OD) being formed by photolysis of H₂O(D₂0) vapour with argon lamp (104,8 and 106,7 nm) and by argon photo- sensitization. The rotational temperature of OH(A²Σ⁺) is higher in the direct photolysis experiments than in argons photosensitization. This result is discussed in term of resonant and non resonant energy transfer, and in comparison with the results obtained by others authors studying the collision of H₂O and D₂O with metastable argon atoms. The rotational temperatures obtained for H₂O and D₂O are in the same range magnitude, so we can predict an unique model of energy distribution for the photodissociation of both molecules.