Oxydation anodique de l’alliage de titane TA6V en milieu acide sulfurique 1 M : influence de l’implantation en ions azote

¹ Laboratoire de Chimie Appliquée et Génie Chimique (CNRS, UA 417), Université Claude Bernard, Lyon I, 69622 Villeurbanne Cedex, France.
² Laboratoire de Cristallographie, C.N.R.S., 166 X, 38042 Grenoble Cedex , France.

Résumé

Le comportement en milieu acide sulfurique (1 M) désaéré de l’alliage de titane TA6V (Ti, 6 % Al, A % V) polarisé à des tensions inférieures à 20 volts est comparé à celui du titane non allié T 40 et de l’alliage TA6V implanté en ions azote. Les oxydes anodiques sont caractérisés par diffraction des rayons X rasants, par spectrométrie de décharge luminescente et par microscopie électronique à balayage. A 7.10¹⁷ ions N⁺.cm^-2 il se forme une couche barrière de TiN qui bloque l’oxydation du métal. La tension d’abandon du métal implanté à la plus forte dose est située dans le domaine passif.

Abstract

We compare the electrochemical behavior in 1 M (H₂SO₄) solutions of TA6V (Ti, 6 % Al, A % V) alloys prior to and after N⁺ implantation and of T 40 unalloyed titanium for oxide formation voltage inferior to 20 volts/SCE. Oxide layers are studied by grazing incidence X-ray diffraction, by glow discharge optical spectrometry and by scanning electron microscopy. For 7.10¹⁷ ions N⁺.cm^-2 a barrier layer of TiN is grown blocking metal oxidation. For the higher implanted doses, the rest potential of the metal lies in the passive range.