Comportement électrochimique des interfaces Ta/Ta₂O₅ et Ta/Ta₂O₅/Pt en présence d'un couple rédox en solution

Université P. & M. Curie; Laboratoire d'Electrochimie ; 4, place Jussieu ; 75252 Paris Cedex 05, France.

Résumé

Les propriétés de transfert électronique aux interfaces "M.I.E." (Métal/Isolant/Elec trolyte) ont été mises en évidence en s'appuyant sur l'exemple significatif du tantale. Ce métal, recouvert d'une couche passivante d'oxyde Ta₂O₅, a été étudié en présence du couple Fe (II)/Fe (III) en solution. Par ailleurs, le dépôt à l'interface d'un métal noble tel que le platine génère une structure "M.I.M." (Métal/Isolant/Métal) qui possède des propriétés de conduction remarquables. Le comportement électrochimique de cette "électrode modifiée" en présence d'un couple rédox en solution est très voisin de celui d'une électrode de platine pur.

Abstract

The transfer of electrons through "M.I.E." (Metal/Insulator/Electrolyte) or "M.I.M." (Metal/Insulator/Metal) structures has been investigated. The behaviour of tantalum electrodes, which are covered with Ta₂O₅, was studied in the presence of an electrolyte containing the hexacyanoferrate II/III redox system. I-E curves and impedance measurements show that the electron transfer is inhibited for anodic processes. Reduction reactions occur with high overvoltages.

However, the Ta/Ta₂O₅/Pt structure exhibited remarkable conduction properties : the I-E curves obtained with a rotating disk electrode are quite similar to those obtained with platinum electrodes, and the charge transfer resistance is low.