| Issue |
J. Chim. Phys.
Volume 89, 1992
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| Page(s) | 1325 - 1330 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1992891325 | |
| Published online | 29 May 2017 | |
J. Chim. Phys., Vol. 89 (1992), pp. 1325–1330
Effet d’une résine autodéveloppable sur la position du profil d’implantation dans des films de PPP
1 LEPOFI, Faculté des Sciences, 123, avenue Albert Thomas, 87060 Limoges Cedex, France ;
2 CNET/LAB/OCM/MPA, 22301 Lannion Cedex, France, France.
La microanalyse SIMS nous a permis de vérifier que l’on peut obtenir un élargissement et un déplacement vers la surface des couches implantées à une seule et même énergie, si les irradiations sont effectuées à travers une couche de résine autodéveloppable (par le faisceau d’ions).
Abstract
The study has shown that profils of implanted ions at a single energy can be broadened and moved at the surface of the samples if ions are implanted through a positive photoresist.
© Elsevier, Paris, 1992