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J. Chim. Phys.
Volume 91, 1994
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Page(s) | 895 - 900 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1994910895 | |
Published online | 29 May 2017 |
Caractérisation de silices greffées. Détermination des taux de greffage et étude des silanols après greffage par RMN sur solides du silicium
Service central d’analyse, CNRS, BP 22, 69390 Vernaison, France.
Une détermination quantitative des taux de greffage de différents échantillons de silices greffées nous a permis de préciser les conditions dans lesquelles un seul spectre suffit pour obtenir une mesure assez précise du taux de greffage. En outre, l’étude de la relaxation, en terme de T1ρ H. des silanols présents après greffage, a montré que la vitesse de relaxation décroît lorsque le taux de greffage augmente.
Abstract
A quantitative determination of modified silicas surface coverages with various samples has allowed to specify the conditions to obtain an accurate measure of the surface coverage with only one spectrum. Besides, after grafting, the T1ρ H study of silanols has shown that the relaxation rate decreases when the surface coverage increases.
© Elsevier, Paris, 1994