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J. Chim. Phys.
Volume 68, 1971
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Page(s) | 1618 - 1620 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1971681618 | |
Published online | 28 May 2017 |
Structure électronique et conformation de l’oxyde de trifluoramine F3NO
Laboratoire Associé au CNRS, n° 160, Université Paul-Sabatier, 38, rue des 36-Ponts, 31-Toulouse, France.
On applique les formalismes semi-empiriques CNDO et INDO à l’étude de la conformation et de la structure électronique de F3NO. La minimisation de l’énergie totale par rapport à l'angle ([math]) conduit à des valeurs identiques à celle déterminée par diffraction électronique. Un découpage bicentrique de l’énergie totale montre que c’est la variation de l’énergie associée aux liaisons (N—F) qui est seule responsable de la forme de la courbe de potentiel. Un examen des termes de la matrice densité montre que l’essentiel du transfert se produit entre les orbitales 2s(N) et 2px(0) et permet une analyse quantique des liaisons chimiques.
Abstract
The electronic structure and conformation of F3NO are investigated in the framework of the CNDO and INDO approximations. The minimization of the total energy with respect to the (ONF) angle occurs for a value which agrees perfectly with microwave data. A bicentric energy partitioning shows the variations of the total energy are completely rellected by the only variation of the (N—F) bonds energy. The analysis of electronic densities reveals the importance of the 2s(N) —>2px(0) transfer in the formation of the dative (N.O) bond, the total transfer being equal to 0.33 electrons.
© Paris : Société de Chimie Physique, 1971