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J. Chim. Phys.
Volume 73, 1976
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Page(s) | 75 - 81 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1976730075 | |
Published online | 29 May 2017 |
Étude de l’impédance de l’interface métal/verre
(Laboratoire de cinétique électrochimique minérale, ERA n° 384, École Nationale Supérieure d'électrochimie et d’électrométallurgie de Grenoble, Domaine universitaire, 38401 Saint-Martin-d’Hères.), France.
La représentation dans le plan complexe de l’admittance de cellules symétriques du type O2, métal/verre/métal, O2, permet d’étudier les caractéristiques électriques des interfaces platine/verre et or/verre en s’affranchissant de la relaxation de conduction de l’électrolyte. Les verres étudiés appartiennent aux systèmes SiO2 — Na2O et P2O5 — Na2O. Aux basses fréquences (10-4 Hz-1 kHz) les courbes expérimentales sont des arcs de cercle. L’analyse de la répartition, en fonction de la fréquence, des points expérimentaux sur ceux-ci permet de trouver une expression analytique de l’admittance. Cette expression suggère une analogie entre l’impédance de l'interface métal /verre et celle d’un circuit RC parallèle. Les valeurs des capacités d’interface et des résistances de transfert ainsi déduites dépendent de la nature du métal, de la température et de la pression partielle d’oxygène au voisinage de l’interface.
Abstract
Admittance diagrams plotted in the complex plane for symmetrical cells O2, metal/glass/metal, O2 are useful for electrical caracterization of platinum /glass and gold/glass interfaces, eliminating dielectric relaxation of the glassy electrolyte. The glass samples belong to the SiO2 — Na2O and P2O5 — Na2O systems. In the low frequency range (10-4 Hz-1 kHz), the experimental curves obtained are portions of circles. An analytical expression for these curves has been derived considering the distribution of experimental points versus current frequency. This expression leads to assimilate the impedance of the metal/glass interface to a parallel RC circuit. Experimental values of interfacial capacity and transference resistance are depending on metal, temperature and surrounding partial oxygen pressure.
© Paris : Société de Chimie Physique, 1976