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Issue
J. Chim. Phys.
Volume 95, Number 6, June 1998
Page(s) 1479 - 1482
DOI https://doi.org/10.1051/jcp:1998309
DOI: 10.1051/jcp:1998309


J. Chim. Phys. Vol. 95, N°6  p. 1479-1482

Les applications des faisceaux d'ions dans la physique des polymères

B. Ratier, A. Moliton, B. Lucas, B. Guille and M. Clamadieu

UMOP, Faculté des Sciences, 123 avenue Albert Thomas, 87060 Limoges cedex, France

Abstract
Experimental configurations of ions beams are illustrated by diagrams in the case of low energy implantation, Reactive Ion Beam Etching (RIBE), Ion Beam Assisted Deposition (IBAD) of molecular layers (or oligomers).

Résumé
Nous présentons les configurations expérimentales (illustrées par des schémas) de trois applications des faisceaux d'ions au traitement physique des polymères : dopage par implantation (cité pour mémoire), gravure par faisceaux d'ions réactifs (RIBE), dépôt des couches moléculaires (ou oligomères) assistés par faisceau (IBAD).


Key words: mplantation -- polymères -- gravure réactive -- dépôt assisté par ions
Contents

© EDP Sciences 1998

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