Issue |
J. Chim. Phys.
Volume 62, 1965
|
|
---|---|---|
Page(s) | 527 - 535 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1965620527 | |
Published online | 28 May 2017 |
Radicaux libres formés par action d’atomes d’hydrogène produits en phase gazeuse sur quelques composés organiques à 77°K
Service de Chimie physique, Commissariat à l’Energie Atomique, C.E.N., Saclay, B.P. n° 2, Gif-sur-Yvette, S.-et-O., France.
Des composés organiques insaturés, refroidis à 77°K ont été soumis à l’action d’atomes d’hydrogène, produits en phase gazeuse par décharge hyperfréquence, afin d’étudier par Résonance Paramagnétique Électronique les radicaux formés par addition sur les doubles liaisons C = C et C = O.
Dans quelques expériences le deutérium a été substitué à l’hydrogène pour faciliter l’interprétation des spectres. La validité de ces interprétations a été vérifiée chaque fois que cela était possible par la méthode du 2e moment.
Les monomères vinyliques donnent de préférence des radicaux du type CH3 — [math]H — X ou CH3 — [math](CH3) — X et il semble que ces espèces ne réagissent pas à 77°K avec d’autres molécules de monomère. Dans le cas ou X = CN, nous avons pu évaluer l’interaction de l’électron célibataire avec l’azote. Les composés carbonylés donnent les radicaux R2 = [math] — OH avec une faible proportion de radicaux R2 = CH — O•.
L’addition de H• ne se produit pas sur la double liaison C = C de l’alcool allylique et l’on obtient le radical CH2 = CH — [math]HOH par arrachement d’un hydrogène. Ce résultat nous a conduit à étudier les réactions d’arrachement produits par les atomes H•, sur quelques alcools et composés halogénés à 77°K.
© Paris : Société de Chimie Physique, 1965