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J. Chim. Phys.
Volume 81, 1984
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Page(s) | 625 - 628 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1984810625 | |
Published online | 29 May 2017 |
Interaction des amides N-substituées avec des acides siliciques lamellaires
Instituto de Físico-Química Mineral, C.S.I.C. Serrano, 115 bis. 28006-Madrid, ( Espagne).
L'étude par spectroscopie infrarouge de l'adsorption des amides N-substituées (N-méthylformamide et N, N-diméthylformamide) dans les acides siliciques lamellaires H-magadiite et H2Si8O17, a montré que ces substances organiques ont accès à l'espace lamellaire en s'associant aux groupements Si-OH întracristallins du substrat silicique. L'interaction s'établie par des liaisons d'hydrogène à travers du groupement CO des amides. Dans le cas de la N-méthylformamide il y a lieu aussi un mécanisme d'interaction à travers des groupements NH avec les atomes d'oxygène de la surface interlamellaire.
Abstract
Infrared studies of the sorption of N-substituted amides (N-methylformamide and N, N-dimethylformamide) on layer silicic acids, H-magadiite and H2Si8O17, show that the organic species penetrate in the interlayer space of the substrate and interact with the internal Si-OH groups by the formation of hydrogen bond through the CO groups. For N-methylformamide en additional mechanism of interaction has been detected consistently in the association of the NH groups with internal surface oxygens.
© Paris : Société de Chimie Physique, 1984