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J. Chim. Phys.
Volume 89, 1992
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| Page(s) | 1271 - 1277 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jcp/1992891271 | |
| Published online | 29 May 2017 | |
Caractérisation de couches minces de parasexiphényle déposé par évaporation sous vide
1 CNET, LAB/OCM/TEP, route de Trégastel, BP 40, 22301 Lannion Cedex, France ;
2 LPC-IMN, rue de la Houssinière, 44072 Nantes, France ;
3 LRM Université Paris-Nord, avenue JB Clément, 93430 Villetaneuse, France.
L’étude des couches minces de parasexiphényle déposé par évaporation sous vide a permis de montrer l’importance des paramètres de dépôt tels que la vitesse d’évaporation et la température du substrat. On montre ici que la meilleure cristallinité est obtenue à température de substrat élevée et très faible vitesse de dépôt. Une texture apparaît alors dans ces conditions, les molécules de parasexiphényle s’orientant pour que leur axe soit quasi-perpendiculaire au plan du substrat.
Abstract
The study of parasexiphenyl thin films deposited under vacuum indicate that deposition parameters - such as evaporation rate, substrate temperature - play a major role. Here we show that the best cristallinity is obtained with a high substrate temperature and a very low evaporation rate. A texture shows up under these experimental conditions, the axis of the parasexiphenyl molecules being normally to the substrate surface.
© Elsevier, Paris, 1992